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上海微电子

半导体装备制造商

上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）是中国大陆半导体装备制造商，主要生产半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务[1]。

上海微电子装备（集团）股份有限公司
Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.
公司类型上市公司
成立2002年，​22年前​（2002）
总部 中华人民共和国上海市浦东新区张东路1525号
产业半导体产业
产品半导体 光刻系统
母公司上海张江高科技园区开发股份有限公司
网站www.smee.com.cn

沿革

2018年，上海微电子装备所能投产的光刻机制程为90nm[2]，后于有传闻更精良的28nm光刻机制程据闻将于2021年首季投入使用[3][4][5]，但亦未确定28nm机型的量产能力，由于过去未如外国厂商集合商业联盟进行联合开发，在科研单位与业界支持力道不足下，因而销售市占主要仅在中低端光刻机与相关设备[6][7]，但随著美国向中国大陆禁运光刻机，中国国产光刻机的发展被广受关注[8]。

但2021年国产DUV并没有问世，据《第一财经》报导，近日发布的《中国集成电路产业人才发展报告（2020-2021年版）》显示中国大陆半导体人才短缺高达20馀万人，中国大陆半导体产业的情况并不乐观[9]。

2022年7月7日，上海微电子举行了首台2.5D/3D先进封装光刻机的交付仪式，但该机器是用于芯片下游制造的先进封装光刻机，并非此前关注的用于芯片上游制造的光罩光刻机[10]。但涉及中低阶装备、材料、检测的国产化进度可期，不少必要的下游合作同行，也正在逐渐攻克国产产业炼[11]。现今，上海微电子装备生产的先进封装光刻机在中国大陆的市占率达80%，海外市占率达40%[10]。

到了2023年5月开始，不少网路消息声称更精良的首部先进光刻机研制终于进入尾声，编号为＂SSA/800-10W＂，据闻最快将于2023年末组装[12][13][14]，但是并没有更多证据流出，直到后来上海张江集团的一篇文章出台确认此机器为真，该相关企业为公司第四大股东与国有企业之一，表示上海微电已经开发出了中国首家28nm技术，但报导很快遭到修改。[15][16]

2024年9月，一款“氟化氩光刻机”，出现在重大技术装备推广应用指导目录，初代样机可能准备要进入下游厂商开始试验反馈，不过中国官方与厂商没有宣布进一步消息，良率也未知，但已经引发网民振奋，不过业内人士称数据上采用193nm光源，65纳米以下分辨率，套刻能力8nm（非多重曝光[17][18]）的光刻机，暂时还没有可能实现先进工艺[19][20]。从业多年的前台积电工程师吴梓豪指出，根据从业者那边知道的内情研判，大致上略弱于15年前的DUV干式曝光，代入角解析度公式测算仪器NA值只有0.75左右，离大规模量产65nm以下工艺的机型是还有一定的差距的，不过这是134nm浸润式光刻的基础，加上在制程配合试错，可以考虑加速追赶[21]，唯文章已经被撤下，经济方面智库表示，应该减少短期宣传，例如日本尼康年前做出了浸润式，但几乎没有大张旗鼓，毕竟有机器跟拿来制造是两回事，到能商业量产的地步，过程一定是沉稳且漫长的[22][23]。半导体产业分析师刘翔认为半导体补贴投入只是杯水车薪，需要著重商业模式投资才能长久效益，先专注成熟工艺是比较可行的选择[24]，而预期到开发出全国产28奈米节点的程度，最快要到2030年代[25][26]。

光刻机产品

  • SSX600系列：用于芯片上游制造，最先进可以用于90nm晶片的制造[10]。
  • SSX500系列：用于芯片下游制造，即先进封装[10]。
  • SSX300系列，面向6英寸以下中小基底先进光刻应用领域[27]
  • SSX200系列，专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。[27]

参见

参考来源

  1. ^ 发展历程. [2018-11-07]. （原始内容存档于2020-10-05）. 
  2. ^ 由国内三台光刻机开始的一些思考. [2018-11-07]. （原始内容存档于2018-11-07）. 
  3. ^ 上海微電子28nm光刻機明年交付！意義何在？. [2020-06-07]. （原始内容存档于2020-12-07）. 
  4. ^ 國內28nm光刻機有望明年出貨，離半導體自給自足又近了一步. [2020-12-07]. （原始内容存档于2022-02-11）. 
  5. ^ China's 28nm-Capable Chip Fabbing Tool on Track Amid Trade War. [2020-12-06]. 
  6. ^ 為什麼光刻機比原子彈還難造？. [2021-01-28]. （原始内容存档于2021-02-04）. 
  7. ^ 讲述上海微电子的故事，还原国产28nm光刻机真相. [2021-03-16]. （原始内容存档于2021-01-23）. 
  8. ^ 觀點投書：中國向光刻機急起直追. [2020-12-22]. （原始内容存档于2021-01-04）. 
  9. ^ 發展半導體產業 大陸未來兩年至少還缺20萬人才. [2021-11-18]. （原始内容存档于2021-11-18）. 
  10. ^ 10.0 10.1 10.2 10.3 联合报记者黄雅慧. 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付. 联合新闻网. 2022-02-08 [2022-07-27]. （原始内容存档于2022-07-27） （中文（台湾））. 
  11. ^ 中國晶片業擴張迅速 首台國產28奈米浸潤式光刻機有望年底交付 | Anue鉅亨 - A股. news.cnyes.com. [2024-09-15] （中文（台湾））. 
  12. ^ 中國首台28nm光刻機到底有沒有出爐？聽起來有點太玄乎. [2023-05-09]. （原始内容存档于2023-08-07）. 
  13. ^ 國產光刻機有望取得突破 首台國產28nm工藝沉浸式光刻機最快年底交付. [2023-08-03]. （原始内容存档于2023-08-07）. 
  14. ^ Chinese firm expected to deliver 28nm chip machine at year-end: media report. [2023-08-01]. （原始内容存档于2023-10-09）. 
  15. ^ 联合早报. 上海微電子據報成功研製出中國首台28納米光刻機. 香港01. 2023-12-20 [2024-09-15] （中文（香港））. 
  16. ^ 上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-15] （中文（简体））. 
  17. ^ 大型科普：多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率？？？. 华尔街见闻. 2023-08-31. 
  18. ^ 全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？. tech.ifeng.com. [2024-09-20] （中文）. 
  19. ^ 星岛日报. 中國研發出國產DUV曝光機 可產8納米及以下晶片. std.stheadline.com. 2024-09-15 [2024-09-15] （中文（香港））. 
  20. ^ Storm.mg. 突破美國、ASML封鎖？中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-15 [2024-09-15] （中文（台湾））. 
  21. ^ 中国国产光刻机取得突破 未透露良率 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-20] （中文（简体））. 
  22. ^ 卢伯华. 頭條揭密》陸晶片產業遭「卡脖子」 買到光刻機也難解決. 
  23. ^ 腾讯网. 国产套刻8nm光刻机引争议，我们追赶对象真的是ASML吗？_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] （中文（中国大陆））. 
  24. ^ cnBeta. 光刻机的自嗨与自知，根源在于产业机制 - 视点·观察. cnBeta.COM. [2024-09-20] （中文（中国大陆））. 
  25. ^ 美国梭哈，日荷跟进，中国芯片奋力一搏还是盖牌走人？. m.chinaaet.com. [2024-09-20]. 
  26. ^ 腾讯网. 国产光刻机突破28nm了吗_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] （中文（中国大陆））. 
  27. ^ 27.0 27.1 300系列光刻机. [2022-10-02]. （原始内容存档于2022-10-02）. 

外部链接

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